农业科技通讯 ›› 2023, Vol. 0 ›› Issue (7): 112-114.

• 试验研究 • 上一篇    下一篇

设施西瓜不同基质栽培方式比较试验

杨娜1, 杨志国1, 王珂1, 张建诚1, 徐隽铭2, 席吉龙1   

  1. 1.山西农业大学棉花研究所 山西运城 044000;
    2.运城市农业农村局 山西运城 044000
  • 出版日期:2023-07-17 发布日期:2023-08-25
  • 通讯作者: 张建诚(1962-),男,硕士,研究员,从事作物栽培与有机旱作研究。E-mail:zhangjc@126.com
  • 作者简介:杨娜(1988-),女,硕士,助理研究员,从事作物栽培研究。E-mail:yn1629@163.com
  • 基金资助:
    运城市农业农村局项目“设施西瓜连作避碍栽培技术研究与应用”

  • Online:2023-07-17 Published:2023-08-25

摘要: 为探究不同栽培方式对西瓜根区温度和产量的影响,本研究对垄沟基质栽培、沟槽基质栽培和膜上基质栽培3种不同的栽培方式进行对比试验。结果表明,3种栽培方式根区日温度变化均呈S形曲线,日平均温度在22.0~22.3℃,处理间日均温度相差不大;西瓜中心糖度以垄沟基质栽培最高;膜上基质栽培和垄沟基质栽培方式西瓜产量较高。因此,膜上基质栽培和垄沟基质栽培是西瓜较为适宜的基质栽培方式,其中垄沟基质栽培因水肥管理方便、用工少,农户易接受,具有更广泛的应用前景。

关键词: 西瓜, 基质栽培, 温度, 产量